2025年9月17日，无锡先为科技有限公司自主研发的EliteMO系列常压型GaN MOCVD设备正式发货，交付国内某头部化合物半导体晶圆厂。这是继今年6月BrillMO系列GaN MOCVD设备成功交付后，先为科技在化合物半导体外延设备领域的又一重大突破，进一步彰显了市场对先为科技产品与技术实力的高度认可。

此次发货的EliteMO系列金属有机化学气相沉积外延设备，具备广泛的应用覆盖与领先的工艺性能，适用于 GaN LD、绿光到紫外 LED、GaN 电子器件、GaN 基新结构材料、Ga₂O₃外延及 AIN 外延生长。该设备可实现多区电阻加热，具备优异的温度均匀性，可提供多元多组分、n/p 型等多种材料外延生长解决方案，赋能先进材料的外延研发与制造。

作为先导集团在半导体领域的关键企业，先为科技依托集团在高端装备制造领域的深厚积累，始终坚持正向研发与自主创新，已成功推出包括两款GaN MOCVD外延设备和SiC外延设备在内的一系列核心产品。此次常压型GaN MOCVD 外延设备的成功发货，将进一步验证先为产品与技术的领先性，有力地推动了化合物半导体外延设备的国产自主化。 

 未来，先为科技将继续深化技术迭代与工艺创新，强化与产业链龙头企业的协同合作，致力于为全球化合物半导体客户提供更可靠、更高效、使用成本更低的外延装备与全生命周期解决方案，助力中国半导体产业自主可控与高质量发展。